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                  纳米二氧化硅抛光粉 

晶瑞新材料 甘先生 186 2016  2680微芯:gzjr88

我公司二氧化硅抛光是一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,

抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料,光学器件、蓝宝石片等的抛光加工.金属镜面抛光

抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点.如:硅片、化合物晶体、光学器件、宝石玉器等的抛光加工.

技术指标:

我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好,粘度低,抛光亮度高,光泽细腻,可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题. 可以做光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光,宝石抛光,金属抛光,石材抛光等精抛.也可参杂到抛光膏或抛光蜡里面当抛光蜡主料.

 用量

推荐用量为8～20%,调成浆料再进行抛光.

储藏:常温密闭储藏.

包装:10公斤/袋.

纳米二氧化硅抛光粉 ,光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光