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紫外光分解化学物质，其实就是自然界中大气自净机能中的一种。但透过地球臭氧保护层的太阳光中紫外线强度已经很弱，因此这种自净过程时间相对漫长。UV光解净化技术，一定程度上，就是模拟太阳中紫外光分解净化废气的分解机理，通过技术手段针对性的，人为控制了紫外线分解废气的分解能量、过程，短时间内增强紫外线能量的释放，加速了这种分解氧化速度，以达到“以能量换取时间”的目的。恶臭物质能否被裂解，取决于其化学键键能是否比所提供的UV光子的能量要低。裂解反应的时间极短（＜0.01s），氧化反应的时间需2-3s。提供的UV光子总功率不够或者含氧量不足，会因为裂解或氧化不完全而生成一些中间副产物，从而影响净化效率。对于高浓度大分子的有机恶臭物质体现得较为明显。光催化氧化除臭设备的长期稳定、高效，需要反应温度＜70℃，粉尘量＜100mg/m3，相对湿度＜99%。条件满足的情况下，光催化氧化除臭设备的最高净化效率可达到95%以上。高效除恶臭：高效去除污染物以及各种恶臭味；脱臭效率最高可达95%以上；适应性强：可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理；运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护；
UV光解主要工艺段技术原理：
众所周知，紫外线是由电磁波组成，其本身所带有的能量与波长直接有关，波长越短，能量越大。通过采用D波段内的真空紫外线（波长范围170~184.9nm），照射有机气体或恶臭气体分子，当这些气体分子吸收了这类紫外线光后，因紫外线光本身所带有的能量，使有机气体或恶臭气体分子内部发生裂解，化学键断裂，形成游离状态的原子或基团（C*、H*、O*等）。同时，混合气体中的氧气被紫外线光裂解形成游离的氧原子并结合生成臭氧【UV O2→O- O*(活性氧) O* O2→O3(臭氧)】；混合气体中的水蒸气被紫外线光裂解产生羟基【UV H2O→H OH-(羟基) 】，而这些生成的臭氧和羟基具有极强的氧化性，可将废气分子裂解产生的原子和基团（甚至是有机气体或恶臭气体分子）氧化成H2O和CO2等无污染的低分子化合物。另外，利用高能紫外线光束可裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀菌的目的。
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